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關(guān)于多線切割線痕問(wèn)題

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級(jí)別:| 積分:0 分 | 瀏覽:81341 | 大。16.02KB | 下載:4454 次 | 上傳:2013-10-18

簡(jiǎn)介:

硅片表面出現(xiàn)單一的一條陰刻線(凹槽)、一條陽(yáng)刻線(凸出),并不是由于碳化硅微粉的大顆粒造成的,單晶硅、多晶硅在拉制過(guò)程中出現(xiàn)的硬質(zhì)點(diǎn)造成跳線,而形成的線痕。

[展開(kāi)]
         
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